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氮化硅压力烧结炉(立式)
氮化硅压力烧结炉(立式)
产品描述:
氮化硅压力烧结炉(立式)主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。
应用范围:
氮化硅陶瓷球、轴承、导热基板、平台、导轨、刀具、结构件等。

氮化硅压力烧结炉(立式)技术特征

利用特色的炉胆结构的和电加热板安装,炉温平均性好;

全紧闭马弗,封好成果好,抗生态破坏工作能力强;

可拥有真空箱焙烧工艺、压差焙烧工艺、气体压力脱脂焙烧工艺等功用;

具超温超压保护措施等错误代码报警声音,专用设备式重新水压保护措施,動作互锁等实用功能,专用设备很安全高朝;

能选配脱脂模式,构建瓷器相关食品的脱脂焙烧连续性治理;

适于工艺气氛:N2/Ar/H2

氮化硅压力烧结炉(立式)产品规格

规格/规格VPSF-0612VPSF-0917VPSF-1015VPSF-1120
工作区尺寸
W×H×L(mm)
φ600×1200φ900×1700φ1000×1500φ1100×2000
最高温度(℃)2000200020002000
温度均匀性(℃)±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-100
最高压力(MPa)<10<10<10<10

氮化硅压力烧结炉(立式)配置选择

结构类型主要形式:臥式-单营业/双营业;双面-上起料/下出料口

炉把手锁紧方式:手动式/自行

炉壳质材:全高碳钢/里层铝合金管/全铝合金管/Q345

隔温材质原料:碳毡/石墨毡/碳植物纤维凝固毡

烧水器、马弗面料:石墨/CFC

热电阻:K/N/C/S精度等级号(钨保护管/陶瓷图片保护管)

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