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氮化硅压力烧结炉(立式)
氮化硅压力烧结炉(立式)
产品描述:
氮化硅压力烧结炉(立式)主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。
应用范围:
氮化硅陶瓷球、轴承、导热基板、平台、导轨、刀具、结构件等。

氮化硅压力烧结炉(立式)技术特征

分为特殊性的炉胆组成和进行暖气片装置,炉温平均性好;

全紧闭马弗,密封性实际见效快,抗环境破坏的能力强;

可符合真空室焙烧、阻力焙烧、负压力脱脂焙烧等效果;

极具超温过压等内部故障警告,机械装备式一键工作压力保护的,動作互锁等系统,的设备可靠性好;

必选配脱脂整体,达成卫浴陶瓷纺织品的脱脂烧结工艺做次性治疗;

适于工艺气氛:N2/Ar/H2

氮化硅压力烧结炉(立式)产品规格

技术数据/数据VPSF-0612VPSF-0917VPSF-1015VPSF-1120
工作区尺寸
W×H×L(mm)
φ600×1200φ900×1700φ1000×1500φ1100×2000
最高温度(℃)2000200020002000
温度均匀性(℃)±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-100
最高压力(MPa)<10<10<10<10

氮化硅压力烧结炉(立式)配置选择

结构设计行驶:柜式-单关业/双关业;立柱式-上有料/下进料

炉锁芯紧的方式:人工手动开启机组/智能

炉壳质量:全碳素钢/里边冷库保温隔热板的表层/全冷库保温隔热板的表层/Q345

保温隔热木头材质:碳毡/石墨毡/碳素纤维材料干固毡

高温器、马弗面料:石墨/CFC

pt100:K/N/C/S度数号(钨保护管/瓷砖保护管)

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