F66永乐

您好!欢迎访问【湖南F66永乐科技股份有限公司】官网
  |  

400-677-0098
热解氮化硼化学气相生长炉
热解氮化硼化学气相生长炉
产品描述:
主要用于半导体领域氮化硼的化学气相涂层或生长。
应用范围:
OLED坩埚、PBN板材/环舟、VGF坩埚、LEC坩埚等。产品纯度≥99.999%/99.9999%。

热解氮化硼化学气相生长炉技术特征

采取现代化的进的控制能力,能精密制造的控制BCl3/NH3的流量的和压力值差,炉膛内沉淀气体安稳,压力值差下降小;

多安全通道方法气路,紧密配合旋转视频料台,无沉积物盲区;

联级空气治理操作系统,能快速治理腐化性空气、液体副结果,生活环境很友好;

可选装配近期最新设计制作的防腐处理蚀真空环境汽轮机,一直操作时期长,维护保养率低;

适于工艺气氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3


热解氮化硼化学气相生长炉产品规格

性能参数\机型VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
工作区尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
最高温度(℃)2000
温度均匀性(℃)±5~±20
极限真空度(Pa)1-100
压升率(Pa/h)0.67
以上的水平参数可据工序特殊要求做出优化,不是 为报验标准,按照以水平预案和服务协议为标准。

热解氮化硼化学气相生长炉配置选择

在线留言

半导体材料热工装备

广告法声明

新广告法规定所有页面不得出现绝对性用词与功能性用词。我司严格执行新广告法,已开展全面排查修改,若有修改遗漏,请联系反馈,我司将于第一时间修改,我司不接受以任何形式的极限用词为由提出的索赔、投诉等要求。所有访问本公司网页的人员均视为同意接受本声明。
  • 电话:18874256050
  • 邮箱:sales5@sinoacme.cn